Microsc. Microanal. Microstruct. 5, 409-425 (1994)
DOI: 10.1051/mmm:0199400504-6040900

Interférometrie haute résolution par microscopie optique en champ proche

Fadi Baida, Claudine Bainier et Daniel Courjon

Laboratoire d'Optique P. M. Duffieux, CNRS URA 214, Université de Franche-Comté, Faculté des Sciences et des Techniques, Route de Gray, 25030 Besançon Cedex, France

Abstract
Near Field Optical Interferometry is based on the exploitation of interferences between evanescent fields generated by diffraction of light on subwavelength object features. In this communication, we present a technique allowing to detect such interference patterns. Parallely, a simple theoretical approach is developed.

Résumé
Linterférométrie optique en champ proche est basée sur l'exploitation des interférences entre les ondes évanescentes créées lors de la diffraction de la lumière par les détails de l'objet dont la taille est inférieure à la demi-longueur d'onde du rayonnement utilisé. Dans cette communication nous présentons une étude expérimentale de réalisation et de détection de ces interférences ainsi qu'une approche théorique simple permettant de décrire cette expérience.

PACS
0779F - Near-field scanning optical microscopes.
0760L - Interferometers.
4230 - Imaging and optical processing.

Key words
Optical microscopy -- Interferometry -- Optics -- High resolution -- Scanning probe microscopy -- Near field scanning optical microscopy -- Metrology -- Physics


© EDP Sciences 1994