Profilométrie par spectrométrie de masse d'ions secondaires de couches alternées cobalt-cuivre. Influence des conditions de
pulvérisation sur la résolution en profondeur
SIMS profiling of metallic multilayers Co/Cu/Co. Effects of bombardment parameters on depth resolution
Microsc. Microanal. Microstruct., 8 4-5 (1997) 273-286
DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997121