Microsc. Microanal. Microstruct. 3, 401-413 (1992)
DOI: 10.1051/mmm:0199200305040100

Structure of nickel thin films electrodeposited on n-GaAs single crystals

Luc Allemand, Michel Froment, Georges Maurin et Eliane Souteyrand

UPR15 du CNRS, Physique des Liquides et Electrochimie, Tour 22, 4 Place Jussieu, 75252 Paris Cedex 05, France

Abstract
Current versus time transients obtained by cathodic potential pulses, during nickel electrodeposition on n-GaAs single crystals, present an unusual, shape. The two maxima of the cathodic current are interpreted by a Stranski-Krastanov mechanism. TEM and RHEED observations of the nickel electrodeposits show the occurence of a two steps 2D/3D epitaxial growth with a multiple positioning of nuclei inducing the formation of specific twin arrangements.

Résumé
Les courbes transitoires courant-temps résultant d'impulsions cathodiques, durant le dépôt électrolytique du nickel sur des monocristaux de GaAs, présentent une forme peu commune. On interprète les deux maxima du courant cathodique par un mécanisme de Stranski-Krastanov. Les observations en microscopie électronique par transmission et diffraction de surface des dépôts de nickel révèlent une croissance épitaxique en deux étapes, bidimensionnelle puis tridimensionnelle, donnant lieu à la formation d'arrangements spécifiques de macles.

PACS
6855A - Nucleation and growth: microscopic aspects.
6837L - Transmission electron microscopy (TEM) (including STEM, HRTEM, etc.).

Key words
Electrodeposition -- Crystal structure -- TEM -- High-resolution methods -- RHEED -- Nucleation -- Thin films -- Transition elements -- Nickel -- GaAs substrate -- Stranski-Krastanov process -- Ni


© EDP Sciences 1992