Microsc. Microanal. Microstruct. 5, 189-202 (1994)
DOI: 10.1051/mmm:0199400503018900

Laterally graded division parameter layered synthetic microstructures

C. Guichet¹, R. Rivoira¹, G. Rasigni¹ et A. Charai<sup>2

1</sup>  Département de Physique des Interactions Photons-Matière Case EC1, Paculté des Sciences de St Jérôme, 13397 Marseille Cedex 20, France
²  Laboratoire de Métallurgie U.R.A. 443 C.N.R.S. Case 511, Faculté des Sciences de St Jérôme, 13397 Marseille Cedex 20, France

Abstract
A laterally graded γ layered synthetic microstructure (LSM), (where the division parameter γ is the ratio between the thickness of the high refractive index material and the LSM's period), has been manufactured by means of a sputtering technique. This special LSM has been characterized by specular reflectivity X-ray measurements using a diffractometer equipped with an incident beam monochromator and Cu-K α (1.5418 A) radiation. It exhibits the properties expected by the dynamical theory of X-ray diffraction. The results are shown to be in good agreement with computer simulations and transmission electron microscopy (TEM) observations. The object of this paper is to prove the feasibility of such a structure whose the interest is the selection on one sample of the division parameter γ desired for different applications. We give a calibration curve of the sample by means of an experimental law of laterally γ variation.

Résumé
Des microstructures synthétiques en couches minces à variation latérale de γ (oú γ est le rapport entre l'épaisseur de matériau de haut indice et le paramètre de la multicouche) ont été fabriquées par pulvérisation. Elles ont été caractérisées par réflectivité spéculaire X avec un diffractomètre fonctionnement sous rayonnement primaire monochromatique Cu Kα. Les résultats sont en bon accord avec ceux prévus par la théorie dynamique de la diffraction X, ainsi qu'avec des simulations sur ordinateur et des observations en MET. Nous montrons ainsi qu'il est possible de réaliser des structures dont l'intérêt est de disposer sur un échantillon de valeurs du paramètre γ correspondant à des applications diverses.

PACS
6865 - Low dimensional structures: growth, structure and nonelectronic properties.
8115C - Deposition by sputtering.
7820D - Optical constants and parameters condensed matter.
7865 - Optical properties of thin films and low dimensional structures.
6480G - Microstructure.

Key words
carbon -- crystal microstructure -- refractive index -- sputter deposition -- sputtered coatings -- tungsten -- X ray reflection -- layered synthetic microstructures -- laterally graded division parameter -- refractive index -- sputtering technique -- specular reflectivity X ray measurements -- structure -- calibration curve -- W C


© EDP Sciences 1994