Microscopy Microanalysis Microstructures

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Éditorial p. III

Daniel David

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:0199700804-50R300

• Abstract
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Foreword

Foreword p. V

L. Barrallier, A. Charaï and O. Thomas

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:0199700804-50R500

• Abstract
• PDF (113.4 KB)

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Some Aspects of Coherent Epitaxial Deposits p. 229

Pierre Müller and Raymond Kern

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997119

• Abstract
• PDF (1.058 MB)
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Stress evolution under neutron irradiation of NiC/Ti supermirrors p. 239

Kalyana N'Guy-Maréchal, Alain Menelle, Patrice Gergaud and Klaus Al Usta

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997100

• Abstract
• PDF (876.0 KB)
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Mechanical Properties of Optical Dielectric Thin Films Deposited by the Ion Plating Technique p. 251

Christine Mahodaux, Hervé Rigneault, Hugues Giovannini, Ludovic Escoubas and Paul Morreti

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997120

• Abstract
• PDF (915.5 KB)
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Characterization of W Films on Si and SiO2/Si Substrates by X-Ray Diffraction, AFM and Blister Test Adhesion Measurements p. 261

Alain Bosseboeuf, Michel Dupeux, Mathilde Boutry, Tarik Bourouina, Daniel Bouchier and Dominique Débarre

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:0199700804-5026100

• Abstract
• PDF (2.118 MB)
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Profilométrie par spectrométrie de masse d'ions secondaires de couches alternées cobalt-cuivre. Influence des conditions de pulvérisation sur la résolution en profondeur
SIMS profiling of metallic multilayers Co/Cu/Co. Effects of bombardment parameters on depth resolution p. 273

François Jomard and Marcel Perdereau

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997121

• Abstract
• PDF (1.389 MB)
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Depth Profiles of Al/Mn/Si Multilayers p. 287

Chrystel Hombourger, Philippe Jonnard, Christiane Bonnelle, Eric Beauprez, Marc Spirckel, Béatrice Feltz, Dominique Boutard and Jean-Paul Gallien

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997122

• Abstract
• PDF (1.485 MB)
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Quantification de l'analyse en profondeur par spectrométrie d'électrons Auger et pulvérisation ionique : caractérisation des interfaces des films multicouches Cu–Co
Quantification of AES depth sputter profiling: characterization of Cu–Co multilayers interfaces p. 301

Françoise Basile, Jean Bergner, Claude Bombart, Pascale Nallet, Elisabeth Chassaing and Gérard Lorang

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997123

• Abstract
• PDF (1.816 MB)
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Microanalyse nucléaire d'aciers nitrurés
Nuclear Microanalysis of nitrided steels p. 315

Pierre Vigier, Constantin Iacob and Daniel David

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997124

• Abstract
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Physicochemical Interaction and Atomic Structure at Cu-MgO Interfaces p. 325

Philippe Jonnard, Chrystel Hombourger, Françoise Vergand, Christiane Bonnelle, Alain Renou, Albert Assaban, Eveline Gillet and Marcel Gillet

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997125

• Abstract
• PDF (1.142 MB)
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Complete TEM Investigation of a Nitrided Layer for a Cr Alloy Steel p. 335

Jean-Noël Locquet, Richard Soto, Laurent Barrallier and Ahmed Charaï

DOI: https://doi.org/10.1051/mmm:1997126

• Abstract
• PDF (3.583 MB)
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